用于在内层和外层创建精细和超精细的迹线图像;优异的附着力和高表面硬度。Elpemer®光刻胶具有出色的分辨率，能够表示50μm<超细迹线;非常低的曝光能量;快干;适用于所有标准申请流程;可剥离在可过滤薄片中，促进减少废水污染并延长汽提塔溶液的停留时间。
SD 2054
通过丝网印刷施加负光成像蚀刻和电镀抗蚀剂。
优异的润湿性和流动性，优异的附着力和高表面硬度。
极低的曝光能量，快干。
干燥后表面无粘性，因此易于堆叠。
水性碱性可显影。
耐酸碱蚀刻和电镀液，pH值约为9。
碱性可剥离。汽提时分解成可过滤的薄片，易于过滤。
热固化蚀刻和电镀抗蚀剂
SD 2052 AL
丝网印刷正蚀刻抗蚀剂。
耐碱性蚀刻浴，pH 值高达 9。
高清光刻胶可实现细线迹线
优异的附着力和高表面硬度。
碱性可剥离。
澳罗西特2149系列
用于二次成像技术（SIT）的电镀抗蚀剂可在化学镀镍工艺（ENiG）期间保护金属表面，从而实现额外的OSP表面光洁度。
对铜和阻焊剂具有良好的附着力。
丝网印刷的高清液体，热固化抗蚀剂。
能够精确再现 150 μm 结构。
对铜和阻焊剂具有良好的附着力。
在碱性介质中易于剥离。